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      CVD法及等離子噴涂陶瓷涂層薄膜

      2020-4-1 9:10:35      點擊:
      現行制備Cr2O3陶瓷涂層薄膜的方法主要有濺射法,CVD法以及等離子噴涂熱分解法.電弧離子鍍(AIP)陶瓷涂層薄膜是在蒸鍍和濺射鍍膜技術的基礎上逐步改進和發展起來的新型鍍膜技術.它具有金屬蒸氣密度和離化率高、沉積速度快、膜層厚度均勻,靶位置不受限制、繞鍍性好、工藝參數易于調節等優點,已廣泛應用于工業生產中。
      CVD法及等離子噴涂陶瓷涂層薄膜
      目前利用電弧離子鍍法制備Cr2O3薄膜的研究較少本文利用電弧離子鍍方法在不銹鋼基體上沉積Cr2O3陶瓷涂層薄膜.著重研究氧氣流量和脈沖偏壓對陶瓷涂層薄膜的組織結構的影響,初步研究了偏壓對Cr2O3陶瓷涂層薄膜硬度的影響。

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